台积电并没有在美建厂的计划，并拒绝了美的建厂邀请，但芯片规则修改后，台积电就出尔反尔，宣布在美投资120亿美元建设5nm芯片生产线。
美再次修改规则后，并对ASML进一步游说，希望能够进一步收紧国际主流光刻机的出货范围，实际上就是进一步限制DUV光刻机的出货范围。
言外之意就是拒绝了美的建议。
意外的是，ASML在光刻机出货方面也出尔反尔了，因为美已经与荷兰拟议中的对华半导体出口管制谈判结果初定。
ASML一直都在争取自由出货，还在加速推进High NA EUV光刻机，提升EUV光刻机的普及率，目的就是实现EUV光刻机自由出货。
首先，光刻机产能本身就不足，ASML表示积压的光刻机订单，要到2024年才能够消化完，原因是ASML的供应链也面临芯片短缺的问题，主要是成熟工艺的芯片。
其次，影响ASML的营收和扩产。
数据显示，国内市场ASML第三大市场，给AMSL贡献了超14%的营收，而ASML向国内市场出货的主力设备就是DUV光刻机。
最后，加速ASML退出国内市场。
如今，国产90nm光刻机已经突破，其它先进技术也在逐步突破中，而ASML的DUV光刻机却面临进一步收紧出货的情况。
更何况，国内厂商正在加速推进堆叠技术芯片、小芯片、量子芯片和光电芯片等技术，这都将进一步降低了ASML光刻机的依赖。
