全球最先进的光刻机，目前仅有荷兰的ASML能够生产制造，其中，EUV光刻机主要用于7nm以下芯片，全新一代NA EUV预计2025年交付，主要用于2nm等芯片。
但ASML研发出来EUV光刻机后，就不能自由出货，华为在5G等技术方面领先后，美又限制ASML出货DUV光刻机等设备。
ASML曾明确表示，EUV光刻机不能出货是因为瓦森纳协定，而在美生产制造的DUV光刻机，出货则需要许可。
不过，ASML一直都在想办法向出货DUV光刻机等设备，并表示对全球厂商一视同仁，还要加大在国内市场的投资。
从2022年10月份开始，美就再次修改规则，不仅进一步限制高通等美芯企业出货，还搞四方芯片联合，随后还对ASML进一步游说。
最主要的是，美拉上日荷签订了三方协议，目的就是进一步限制国际主流需求的光刻机出货范围，结果三方都没有对外公布具体的协议内容。
消息称，三方没有公布具体的协议，是因为日荷在限制出货方面本身就不愿意，毕竟，日企将近50%的半导体设备都是出口到国内，国内市场又是ASML第三大市场。
日前，荷兰突然对外宣布，将会配合美对相关半导体设备进行出口管制，预计开始时间从今年夏季开始。
今年年初，荷兰方面还表示不会草率跟进美对大陆芯片出口制造技术实施新限制。
如今，荷兰表示将配合美限制相关设备出口，就有外媒表示荷兰选择摊牌了。
据了解，荷兰选择摊牌，限制相关设备出口，可能就是因为压力太大，毕竟，ASML虽然能够生产制造先进光刻机，但技术核心技术还是来自美。
ASML虽然是一家荷兰公司，但50%的股权都是美控制的，英特尔也是ASML大股东之一，当年就是英特尔、台积电以及三星联合将ASML推上历史舞台。
因为ASML的光刻机主要就是出货给以上几家厂商，ASML也认清了自己的角色定义，那就是干好各利益链条之间的衔接作用，将所有的客户捆绑在一起，实现“多方共赢”。
另外，ASML研发制造的光刻机其实也是一个组装品，因为仅有10%的技术是来自本土，剩下90%的技术都是来自全球超40个国家。
其中，EUV光刻机的核心技术是光源、透镜、工作台，而光源来自于美，透镜、工作台则是来自于德。这也就注定了ASML没有多少选择权。
不过，尽管荷兰选择了摊牌，限制最先进的浸没式DUV系统，而最先进的DUV系统是TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸没式系统。
这意味着TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟的浸没式DUV机型不在受限范围。
要知道，最先进的DUV系统是EUV系统的过渡产品，主要是用于生产制造7nm等芯片，但TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟系统，在多层曝光工艺下，也能够将芯片工艺缩小至7nm。
就目前而言，国内厂商已经掌握了多重曝光工艺，N+1等更先进的工艺也是实现了小规模生产。
在国内厂商大规模扩产成熟工艺的情况下，荷兰选择摊牌，ASML还出货部分型号的DUV光刻机，实际上影响并不大，更何况，国内厂商就早未雨绸缪了。
