美光科技生产芯片绕过了EUV（极紫外光刻）工具，我们离突破还会远吗？
就在最近，美光科技宣布采用1β 制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给手机制造商进行验证，如果通过就可以进行量产。该技术绕过了EUV，采用的仍然是DUV。
这也给我们的芯片产业提供了新的思路和可能。我们的芯片被人“卡脖子”，就是因为缺少EUV光刻机。虽然我们也向阿斯麦下了订单，但是由于美国的阻碍，我们一台光刻机也没有得到。不仅如此，最近美国又在劝阿斯麦禁售DUV光刻机，就是想要在光刻机上把我们发展芯片制造的道路堵死。
我们的科技企业也在尝试绕过EUV光刻机生产高端芯片，比如华为提出的芯片分层叠加技术，和美光的技术有异曲同工之妙。所以可以预见的是，未来的芯片技术必定会向着更多的方向发展。
从这个角度上讲，美光开了个好头。最惨的是阿斯麦，花大笔钱研发出来的EUV光刻机，因为美国的各种禁售严重影响了销量不说，还逼着其他企业用新技术去取代阿斯麦的垄断技术。照这样下去，阿斯麦前途堪忧。
不知道大家怎么看呢？
